PTFE(테플론) 실험용 기구
실리콘 웨이퍼 처리 및 미량 분석용 고순도 PFA 실험실 직사각형 탱크 내식성 산 세정 배스
품목 번호 : PL-CP198
가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의
- 재료
- 고순도 버진 PFA
- 작동 온도 범위
- -200°C ~ +260°C
- 내부 치수
- 400 x 300 x 120 mm (사용자 정의 가능)
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제품 개요



이 고순도 PFA 실험실 직사각형 탱크는 불소수지 공학의 정점을 나타내며, 화학적 불활성과 오염 제어가 절대적인 환경을 위해 특별히 설계되었습니다. 고급 페르플루오로알콕시 알칸으로 제작된 이 장비는 극미량 분석 및 반도체 제조에서 민감한 부품의 저장, 침지 및 세정을 위한 타협 없는 솔루션을 제공합니다. 견고한 구조는 가장 강력한 무기산과 유기 용제에 노출되더라도 용기의 구조적 무결성과 재료 순도를 유지하여 공정 매체로의 금속 이온 또는 유기 오염물질 용출을 방지합니다.
주로 반도체, 태양광, 제약 산업에서 사용되는 이 장치는 실리콘 웨이퍼 세정, 산 에칭, ICP-MS 및 ICP-OES 분석용 시료 준비에서 탁월한 성능을 발휘합니다. 치수는 표준 웨이퍼 캐리어와 실험실 랙을 수용하도록 최적화되어 있으며, 재료의 고유한 반투명성으로 액체 수준과 세정 진행 상황을 쉽게 모니터링할 수 있습니다. 자동화된 웻 벤치에 통합되거나 독립형 침지 스테이션으로 사용되든, 이 시스템은 고위험 산업 공정과 첨단 과학 연구에 필요한 일관성과 신뢰성을 제공합니다.
까다로운 실험실 조건에서 이 장비는 비할 데 없는 확신을 제공합니다. 표준 플라스틱이나 저등급 불소수지와 달리, 이 고성능 탱크는 극한의 열 사이클링과 농축 불산, 질산, 황산에의 장기 노출을 견딜 수 있도록 제작되었습니다. 공학적 탁월성에 대한 헌신은 모든 곡률과 표면 마무리에 반영되어, 이 장비가 향후 수년간 귀하의 무오염 워크플로우에서 믿을 수 있는 자산으로 남아 있도록 보장합니다. 그 내구성은 교체 비용 절감과 높아진 운영 안전성으로 이어져, 장기적 가치와 기술적 성능에 중점을 둔 구매 팀의 선호 선택이 되고 있습니다.
주요 특징
- 탁월한 화학적 불활성: 이 장비는 100% 버진 PFA로 제작되어 강산, 강염기 및 산화제를 포함한 부식성 화학 물질에 거의 보편적인 저항성을 제공하여 장기 침지 공정 중 재료 분해가 발생하지 않도록 합니다.
- 초저 미량 금속 용출: 가장 민감한 분석 응용 분야를 위해 설계되어 시료 오염 위험을 최소화하므로, ppt(parts-per-trillion) 수준의 정확도가 요구되는 미량 원소 검출에 이상적입니다.
- 탁월한 열 안정성: 이 시스템은 극저온 수준부터 260°C(500°F)까지 넓은 온도 범위에서 기계적 강도와 내화학성을 유지하여 고온 산 침출 및 고온 세정 사이클이 가능합니다.
- 부착 방지 표면 특성: 불소수지의 낮은 표면 에너지는 잔류물, 생물막 및 결정성 침착물의 부착을 방지하여 신속한 세정을 용이하게 하고 배치 간 교차 오염을 제로로 보장합니다.
- 무결점 공학 설계: 첨단 제조 기술을 활용하여 오염물이 축적될 수 있는 사각지대와 균열을 제거하는 매끄러운 내부 형상을 특징으로 하여 우수한 유체 역학을 촉진합니다.
- 고순도 반투명성: 재료의 자연스러운 투명성으로 작업자는 용기를 열지 않고도 내용물을 육안으로 검사하고 공정 반응을 모니터링할 수 있어 내부 환경의 무결성을 유지합니다.
- 견고한 구조적 무결성: 강화된 벽 두께로 설계된 이 장비는 무거운 유체 하중과 고온 하에서 변형을 견뎌내어 산업 세정 작업을 위한 안정적이고 안전한 플랫폼을 제공합니다.
- 맞춤형 구성: 표준 치수 외에도 정밀 CNC 가공을 통해 특정 포트, 뚜껑, 배출 밸브 또는 내부 파티션을 추가하여 고유한 공정 요구 사항을 충족하도록 맞출 수 있습니다.
- UV 및 산화 저항성: 완전히 불소화된 골격 구조는 자외선 또는 오존에 노출되어도 장비가 분해되지 않도록 보장하여 고급 산화 공정 및 클린룸 환경에 적합합니다.
- 정밀 제조: 모든 장치는 치수 정확도와 표면 매끄러움을 보장하기 위해 엄격한 품질 검사를 거쳐 정교한 반도체 습식 공정 장비에 통합하는 데 필요한 엄격한 공차를 충족합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 반도체 웨이퍼 세정 | 유기 및 금속 불순물을 제거하기 위해 RCA 또는 피라냐 용액에서 실리콘 웨이퍼 침지 및 에칭. | 서브마이크론 노드에서 금속 이온 오염 방지. |
| ICP-MS 시료 준비 | 고순도 질산에서 소화 용기 및 실험실 도구의 사전 세정 및 침출. | 미량 분석을 위한 가능한 가장 낮은 배경값 보장. |
| 태양광 전지 에칭 | 공격적인 화학 배스를 사용하여 태양광 실리콘 표면의 텍스처 에칭으로 빛 흡수율 향상. | 가혹한 텍스처 화학 물질 및 열에 대한 높은 내구성. |
| 제약 API 세척 | 교차 오염 방지를 위해 고순도 용제에서 스테인리스강 부품 또는 특수 유리 부품 세정. | 첨가제 용출이 없는 FDA 적합 재료. |
| 배터리 연구 | 리튬이온 배터리 테스트 중 반응성 전해질 및 불산 부산물 처리. | 전해질 분해 생성물에 대한 장기 저항성. |
| 핵 동위원소 저장 | 방사성의약품 생산 중 산성 매질에서 방사성 동위원소의 안전한 저장 및 운반. | 신뢰할 수 있는 저장 및 쉬운 제염. |
| 마이크로일렉트로닉스 R&D | 소량 배치 화학적 호환성이 필요한 새로운 증착 및 에칭 공정 개발. | 맞춤형 크기 및 내부 고정 장치에 대한 유연성. |
| 환경 시험 | 중금속 검출을 위한 산 배스에서 대용량 환경 시료의 저장 및 침지. | 벽과의 최소 상호 작용으로 높은 부피 대 표면적 비율. |
기술 사양
| 매개변수 | PL-CP198 사양 |
|---|---|
| 모델 식별자 | PL-CP198 |
| 재료 구성 | 100% 버진 고순도 PFA (페르플루오로알콕시) |
| 외부 치수 | 400mm (L) x 300mm (W) x 120mm (H) |
| 벽 두께 | 응용 분야에 기반한 구조적 안정성을 위해 맞춤 설계 |
| 온도 범위 | -200°C ~ +260°C (-328°F ~ +500°F) |
| 내화학성 | 우수 (HF, HNO3, HCl, H2SO4 및 유기 용제 포함) |
| 표면 마무리 | 고정밀 매끄러운 내벽; Ra < 0.5μm 가능 |
| 미량 금속 함량 | 중요 금속에 대해 일반적으로 < 1 ppb (배치 테스트 검증) |
| 맞춤화 옵션 | 완전히 맞춤화 가능한 치수, 뚜껑 설계 및 배수 포트 |
| 제작 방법 | 정밀 CNC 가공 또는 성형 (용량 및 요구 사항에 따라) |
| 뚜껑 구성 | 오픈 탑 또는 일치하는 PFA 평평/함몰 뚜껑으로 제공 가능 |
이 제품을 선택해야 하는 이유
- 비할 데 없는 재료 품질: 우리는 프리미엄 등급 PFA만을 사용하여 모든 장치가 업계에서 가능한 가장 높은 수준의 내화학성과 가장 낮은 미량 금속 배경값을 제공하도록 보장합니다.
- 정밀 공학: 우리의 종단 간 CNC 제작 능력을 통해 정밀한 공차로 복잡한 형상과 맞춤형 크기를 생산할 수 있어 장비가 귀하의 기존 워크플로우에 완벽하게 적합하도록 합니다.
- 입증된 산업적 신뢰성: 장수명을 위해 설계된 이 시스템은 기존 실험실 플라스틱을 능가하며, 교체 빈도 감소와 공정 가동 중단 시간 최소화를 통해 상당히 낮은 총 소유 비용을 제공합니다.
- 포괄적인 맞춤화: 우리는 하나의 크기가 모두에게 맞지 않는다는 것을 이해합니다. 특수 배수 시스템부터 통합 가열 요소까지, 우리는 설계를 조정하여 귀하의 특정 기술적 과제를 해결할 수 있습니다.
- 불소수지에 대한 절대적 집중: PTFE 및 PFA와 같은 고성능 재료에 대한 독점적인 집중을 통해, 우리는 모든 프로젝트에 전문 지식을 가져와 귀하의 실험실 용품이 최고 수준의 순도와 성능 기준을 충족하도록 합니다.
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